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世伟洛克(Swage l ok)为中国半导体研发提供解决方案

[  修改时间:2011-9-15 16:30:35  作者:周周  浏览次数:404]
 

2001年制定的第十个国家五年计划中,中国政府强调了有机金属化学气相沉积磊晶技术(简称MOCVD)研发的重要性。从此,中国科学院半导体研发所开始不断加强MOCVD技术创新及市场化的研发能力。

位于北京的中国科学院半导体研究所致力于促进中国半导体材料科学的发展和推广。在过去的六年内,他们制造出世界上第一批立方相氮镓发光二级管。在成功将蓝光二级管(LED)技术转入生产应用后,他们的努力都集中在短波长激光二极管、紫外探测器、高效LED和磁性半导体。最近该研究所成功地制造出几种高灵敏度的紫外探测器,并在蓝光激光二极管研发方面取得显著进步。

MOCVD技术作用有机金属盒特殊气体在反应器内发生的化学反应,在有机分子通过热基板时,使其分解,从而沉积磊晶,而废弃的残余物则被除去或沉积在反应器壁上。MOCVD能生产出高纯度和结构秩序的III-V半导体。由于该工艺要求有毒易燃气体正常流动,气流系统必须非常可靠以确保安全。世伟洛克正是提供了气体反应装置的关键气体控制配件。

世伟洛克半导体服务公司(SSSC)拥有高纯度制造设备,致力于半导体技术创新、已客户为中心的团队成为向半导体研究院提供解决方案的****选择。世伟洛克提供快速报价、加快订单进程、专业客户和技术服务以及快速产业分析,来满足以快速和高互动性技术研发为特点的半导体行业需求。

但中国至今没有生产MOCVD设备的专业厂家,企业必须花费大量资金从国外购买。进口的MOCVD设备价格不菲,而且使用过程中维护和零配件的采购不仅昂贵且存在很多的不方便。目前中国自主研发的设备仅为同类骨外设备价格的三分之一。因此,半导体研究所的研发努力对中国半导体工业的发展至关重要。

在此次研究生产Gan的多片结构MOCVD设备的过程中,中科院半导体研究所的研究人员发现目前管线在气体进出线路设计上有所不足,即原先使用的阀门是一个五通阀,气体二进三出,只能通过一个手柄控制气流进出,造成各路气体进气不便、气体的流量调节精度差,容易产生“死区”的问题,因此需要重新设计整个管线流程。同时由于整个项目验收在即,研究人员需要一家能够提供从管线设计到具体配件选择和整套焊接等一系列解决方案的专业流体系统配件提供商。世伟洛克因此组成包含来自中国和美国的员工的团队来迎接这个挑战。

经验丰富的世伟洛克销售服务代表和现场工程师对该所的研究人员的需求进行了评估,协助半导体研究所的研究人员进行气路改造设计,制定了两个分别应用于常规气源和MO源设备的解决方案,使用了世伟洛克(Swagelokr))6LVV系列阀门配件,并安装了VCRMicro-Fit接头。

中科院半导体研究所的项目负责人评价说:世伟洛克在提供了高质量的阀门配件以外,这种全新的整合服务理念,不仅灵活地为我们解决了技术上的难题,同时也大大节省了我们的时间和成本,使我们可以专心地进行研发,而将所有流体系统的问题放心地交给世伟洛克来解决。

该项目持续了六个半月。世伟洛克北京的销售和服务代表帮助协调,并与上海的世伟洛克中国总部及位于克利夫兰的美国总部紧密合作。

世伟洛克的技术人员不仅对设计图改进提出专业建议,同时根据设计图需求协助客户选择合适的阀门和接口。所有的这些阀门配件均由世伟洛克位于美国的工厂制造生产,再将客户所选择的阀门配件就地焊接后成套交付给客户,进而节省了安装时间和成本。大大提升整套气路的密闭性和调节线性度,保障系统的安全、可靠和完整性。

世伟洛克项目负责人李维升回忆说;在与中科院半导体研究所沟通寻求解决方案的过程中,我们共进行了三十多次现场勘察,结合世伟洛克领先全球的流体技术、高质量的产品和独特的整合服务,以及本土和美国总部技术人员的齐心合作是令这个专案顺利完成的关键。

世伟洛克为半导体应用提供范围广泛的高纯度和超高纯度流体系统配件,包括隔膜阀、含氟聚合物阀和管材、PFA接头、陶瓷过滤器、UHP传感器、IGC(r)II模块化气体系统和垂直流量传感器。

世伟洛克将继续秉持预见客户所需,并开发创新产品,来支持半导体行业的发展,满足客户需求。

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